5立方氨分解制氫爐

氨分解氣體發生裝置（HYAQ系列）



氨分解氣體發生裝置（HYAQ系列）



　　HYAQ系列氨分解氣體發生裝置以液氨為原料，在催化劑的作用下加熱分解得到含氫75%，含氮25%的氮氫混合氣體。
　　該產品氣用作保護氣氛。已廣泛應用于金屬熱處理、粉末冶金、鎢鉬行業、磁性材料、電子陶瓷、照明電器、硬質合金等行業。
　　該產品氣也可作富氫原料氣，用來提取純氫。是一種經濟的制氫方法。（配套PAS或膜纖維氫氮分離設備）。
　　配以本公司生產的氣體純化裝置，可以脫除分解后混合氣體的殘余氨和水份，以滿足用戶對高質量保護氣氛的要求：殘氨量≤5PPm，露點≤-60℃。